產(chǎn)品詳情
                        
                        
            簡單介紹:
        
        
            臥式低壓化學氣相沉積爐管
臥式低壓化學氣相沉積爐管用于沉積高品質(zhì)的n型摻雜或非摻雜的多晶硅或非晶硅;用于沉積高品質(zhì)的低應力氮化硅或氮氧化硅。
        
    
            詳情介紹:
        
        臥式低壓化學氣相沉積爐管
	
	
	
	
	
產(chǎn)品簡介
用于沉積高品質(zhì)的n型摻雜或非摻雜的多晶硅或非晶硅;用于沉積高品質(zhì)的低應力氮化硅或氮氧化硅。
	
	
	主要技術指標
    爐管1:N型多晶硅以及非晶硅薄膜沉積工藝
氣體:高純N2、SiH4、PH3
    爐管2:低應力氮化硅,氮氧化硅薄膜
氣體:高純N2、NH3、N2O、SiH2Cl2
    溫度:700-900 °C
    硅片尺寸:3英寸、4英寸、6英寸圓片;50片/爐
 
